此工艺是将被蒸发的固体金属（靶材）置于真空腔室内，产生辉光放电后，在靶材表面运行，靶材在很小的几个微米大小内蒸发，电弧的运动是由磁场所控制的，蒸发出的金属离子形成的等离子体将沉积于工件表面，这些工件是在真空腔内旋转运动，电弧制备的涂层通常被用于工具和零部件的表面涂层，电弧工艺中实现蒸发材料的高度电离，沉积涂层具有优异的附着力。

磁控溅射是入射粒子和靶的碰撞过程，入射粒子在靶中经历复杂的散射过程，和靶原子碰撞，把部分动量传给靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成级联过程。在这种级联过程中某些表面附近的靶原子获得向外运动的足够动量，离开靶被溅射出来，最终得到紧凑的薄涂层以期望的结构与成分沉积。

PECVD是借助微波或射频等使含有薄膜成分原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应。

含颗粒的流体( ( 液体或汽体) ) 冲击固体表面时，表面局部材料不断损失所造成的破坏现象

运动的硬颗粒使被摩擦的构件表面产生破损而分离出磨屑或划伤的磨损现象